Çin, ABD'nin yarı iletken endüstrisine yönelik yaptırımlarına karşılık, aşırı morötesi (EUV) litografi teknolojisi geliştirmeye yönelik ciddi adımlar atıyor. Bu teknoloji, 7 nanometre ve daha küçük işlemci üretiminde maliyetleri önemli ölçüde azaltabilme potansiyeline sahip. Son yıllarda, ABD'nin Çin'e yönelik uyguladığı teknoloji ambargoları, özellikle EUV teknolojisine erişimi sınırlamayı amaçladı. Ancak Çinli üreticiler, bu teknolojiye bağımlılıklarını azaltmak için yerli çözümler geliştirmeye başladılar.
SMEE’nin EUV Teknolojisine Yönelik Patenti
Çin'in önde gelen litografi ekipman üreticisi olan SMEE, geçtiğimiz yıl aşırı morötesi ışınım (EUV) jeneratörleri ve litografi ekipmanları üzerine bir patent başvurusunda bulundu. Şanghay merkezli bu firma, 28 nanometre ve üzeri yarı iletken üretimi için ekipman geliştirmişti, ancak 7 nanometre altı üretime yönelik cihazlar üzerinde çalışmalarını sürdürüyor. Eğer SMEE, EUV tarayıcılar üretmeye başlarsa, Çinli çip üreticileri arasındaki teknoloji açığını kapatma potansiyeline sahip olabilir.
Çinli Çip Üreticilerinin Uluslararası Bağımlılığı
Şu anda Çinli çip üreticileri, %99 oranında uluslararası tedarikçilere bağımlı durumda. Bu tedarikçiler arasında Hollanda, ABD ve Japonya yer alıyor. Hollanda merkezli ASML, dünya genelindeki EUV litografi ekipmanlarının başlıca sağlayıcısı olarak öne çıkıyor. Ancak ABD ve diğer ülkeler, bu ekipmanların Çin'e ihracatını 2019’dan beri sınırlamış durumda. Bu da Çin’in çip üretiminde küresel rakiplerine karşı dezavantajlı hale gelmesine neden oldu.
Hollanda'nın Yaptırımları ve Çin'in Tepkisi
Bu ay itibarıyla Hollanda, ASML’nin Çin'deki müşterilerine yedek parça ve yazılım güncellemesi tedarik etmesini daha da zorlaştırdı. Şirketlerin bu hizmetleri sunabilmesi için özel ihracat lisanslarına ihtiyaç duyuluyor. Bu yaptırımlar, Çin'in yerel üretim kapasitesini artırmak zorunda kalmasına neden oldu. SMEE gibi şirketler, bu duruma karşılık olarak kendi EUV çözümlerini geliştirerek teknoloji bağımsızlığını sağlamaya çalışıyor.
SMEE ve ABD Yaptırımları
SMEE, Aralık 2022'de ABD'nin yaptırım listesine alındı ve bu nedenle Amerikan menşeli teknoloji ve bileşenleri kullanma imkânı kalmadı. Ancak şirket, EUV litografi sistemlerini tamamen kendi kaynaklarıyla üretmeye çalışıyor. Bu sistemler, daha kısa dalga boylu (13,5 nanometre) bir lazer kullanıyor ve geleneksel derin morötesi (DUV) litografi ekipmanlarına göre daha hassas ve küçük işlemciler üretebiliyor. Çin’in en büyük çip üreticisi SMIC, şu anda 7 nanometrelik çipleri DUV teknolojisi ile üretmeye çalışıyor, ancak bu süreç oldukça pahalı ve verimsiz.
EUV Teknolojisi Çin'in Çip Üretimini Nasıl Etkileyecek?
SMEE'nin geliştireceği EUV litografi makineleri, Çin'in kendi çip üretim kapasitesini artırmasında kilit rol oynayabilir. Bu tür makineler, daha az hata oranıyla üretim yapılmasını sağlayarak maliyetleri azaltabilir. Ayrıca, Çin’in yarı iletken endüstrisinde kendi kendine yeterlilik seviyesini yükseltebilir. Bu gelişmeler, küresel çip pazarında Çin’in rekabet gücünü ciddi ölçüde artırabilir.
Yorumlarınız bizim için değerli! Sizce Çin’in bu hamlesi küresel çip piyasasını nasıl etkileyecek? Görüşlerinizi bizimle paylaşın!
